Le SU-est une résine photosensible négative couramment utilisée dans la fabrication de micro-systèmes. Il s’agit d’un polymère très visqueux qui peut être . SU-is a commonly used epoxy-based negative photoresist. It is at this stage that the epoxy groups in the resin cross-link to form the cured structure.

When fully cured the high crosslinking degree gives to the . Les résines de la série SU-20i-line, chimiquement amplifiées, sont parfaitement adaptées à la fabrication de structures permanentes. SU-Resists SU-20Resists are Chemically-Amplifie Epoxy-Based Negative Resists ideal for fabricating micro/nano structures such as cantilevers, .

SU-202 SU-203 SU-20and SU-2075. SU-20is a high contrast, epoxy based photoresist. SU-20is a thermal resin and as such its. Exemple de procédé utilisant la photorésine SU2015. Description de la résine: Résine photosensible négative de type époxy à viscosité élevée pour une . The SU-is a negative, epoxy-type, near-UV photoresist based on EPON SU-epoxy resin (from Shell Chemical) that has been originally develope and . Le procédé d’assemblage à base de la résine SU8.

Ce papier présente une étude de caractérisation mécanique dynamique de polym`eres (PDMS et résine. SU8) en utilisant l’analyse mécanique dynamique .